国产光刻机取得突破 受益概念股汇总 助推芯片国产化进程

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摘要：随着我国半导体产业的快速发展，光刻机作为半导体制造的核心设备，其技术水平尤为关键。近日，我国自主研发的光刻机取得重大进展，标志着我国半导体设备国产化迈出了重要一步，为实现芯片全产业链国产化奠定了基础。

一、国产光刻机技术突破

在工业和信息化部印发的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，集成电路生产装备板块中明确列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机。其中，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，能够支持28纳米工艺芯片量产。这一技术突破，标志着我国在半导体设备领域取得了重大飞跃，打破了外国公司的垄断，为我国芯片产业自主发展提供了关键支撑。

二、光刻机对芯片产业的意义

光刻机是半导体制造中必不可少的关键设备，其技术水平直接影响芯片的性能和成本。传统的芯片制造工艺中，高端光刻机市场被少数几家外国公司垄断，导致我国芯片产业在关键环节受制于人。随着我国光刻机技术的突破，我国芯片产业将逐步摆脱对外依赖，实现自主可控，为国家安全和经济发展提供保障。

三、国产光刻机的未来发展前景

受益于下游晶圆厂的大力扩产，国产半导体设备需求持续增长。2024年以来，国内进口半导体设备金额持续攀升，本土晶圆厂的扩产也带动了国产半导体设备的需求增长。在国产光刻机技术突破的推动下，未来我国半导体设备自主可控水平将逐步提升，为芯片全产业链国产化奠定坚实基础。

四、受益概念股推荐

券商机构建议关注以下受益概念股，这些企业在半导体设备国产化进程中拥有领先优势：

• 北方华创
• 中微公司
• 拓荆科技
• 中科飞测
• 精测电子
• 芯源微
• 华海清科

五、结语

国产光刻机取得的重大进展，不仅是对我国半导体产业的一项重大突破，更是对我国科技自主创新能力的证明。随着光刻机技术的持续提升和国产光刻机的产业化应用，我国芯片产业全流程国产化的目标指日可待，为我国在未来产业竞争中赢得先机提供强大支撑。

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光刻机、操作系统、芯片等，是否只是冰山一角

这段时间由于美国不断的针对华为，让我国在光刻机和芯片上的劣势暴露无遗；如果美国完全切断了高通以及麒麟芯片的代加工，那么国产手机基本上将会出现无芯片可用的尴尬局面，这让很多人第一次认识到原来我们国家在科技方面并没有想象中的那么强。 其实不止是芯片和光刻机，在很多其他领域我们也是被国外卡住脖子。 那么还有多少领域是我国迫切需要突破的领域呢？下面我就给大家简单的介绍几个。

我们这里说的扫描电镜其实是扫描电子显微镜的简称，作为一种高端的电子光学仪器设备，它在诸多工业研究部门以及科研领域有着广泛的应用。

扫描电镜的图像分析率和电子束的直径有关，越细的电子束成像的分辨率就越高。 我国不止在光学领域一直处于劣势的地位，并且在信号收集、显示系统以及真空系统都难以实现突破，进而导致现在扫描电镜的市场基本上都被美国、日本和德国牢牢把持着。

目前扫描电镜虽然有部分国产化，但是性能上和进口电镜有明显差距，所有市场占有率只有10%，让致我国每年在进口电镜方面都要花费上亿美元。

估计大家也听过不少医院买一个影像设备最起码要花费几百万人民币，很多人感觉这是不是采购部门吃了回扣，不然咋都这么贵？其实这次采购部门真的有点冤枉，如果这台设备大量的使用了国外的元器件，那么几百万元真的不能算高价。

目前我国的医学影像设备元器件的水平相当于国外二十年前的水平，在申请专利的数量和时间上都远远的落后国外，这导致医学影像设备元器件的市场被国外牢牢的把持着。 如果国内想生产高端的医学影像设备，那么唯一的途径就是大量进口国外昂贵的元器件，这样自然价格就提了上去。

光刻胶的主要成分是高分子树脂、色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂，涉及到的分子材料的筛选、合成工艺、活性单体等诸多领域。 由于综合难度太高，目前光刻胶的核心技术都被日本的TOK、JSR、住友化学、信越化学所垄断，国内基本上没有任何一个公司完成了自主研发，都是大量依赖进口。

以目前在国内生产手机屏幕最有名气的京东方为例，它在生产高端面板使用的光刻胶基本上全部都是由国外企业提供。 一旦国外在这方面进行断供，京东方的神话可能会瞬间崩塌。

其实上面这三个方面只是我国落后于国外的冰山一角，其余像是高压共轨系统、航空设计软件、高压柱塞泵、航空钢材等等太多领域我们也是全面落后国外。 中国目前只能努力发展自主研发，争取在多方面取得突破；否则一旦被别人卡住脖子，那么对整个行业来说打击将会是致命的。

国产芯片再传好消息,打破西方垄断,已掌握3个关键制造环节

1. 国外在芯片制造领域拥有大量技术，许多顶级设备和材料需从国外进口，我国年芯片进口额超3000亿美元。 2. 去年美国对中国企业实施芯片规则，导致中国企业无法采购芯片和代工芯片。 3. 中国在自研芯片方面加紧努力，全力攻克技术难题。 4. 中国半导体企业取得突破，成功掌握三个关键制造环节技术，打破西方垄断。 5. 第一项技术是离子注入机，我国已实现28nm工艺的全谱系产品国产化。 6. 第二项技术是刻蚀机，中微半导体取得关键突破，设备已用于台积电5nm生产线。 7. 第三项技术是光刻胶，中国光刻胶企业实现Arf光刻胶产品客户验证，并有企业购买ASML光刻机助力研发。 8. 中国在离子注入机、刻蚀机、光刻胶这三大芯片制造环节技术中均取得突破，预计两年内实现28nm芯片自给自足。 9. 国产芯片正逐步打破西方国家垄断，中国企业将持续努力实现技术自主可控，助力中国芯片崛起。 10. 更多芯片制造技术和产品设备正在研制中，中国半导体将在未来克服更多困难，实现技术突破。 11. 对于这一进展，你有什么看法？

巨丰百科｜光刻机概念股解析：光刻机龙头上市公司有哪些？

巨丰百科解析：光刻机龙头上市公司一览光刻机，作为半导体制造的核心装备，起着至关重要的作用。 市场对光刻机概念的关注度日益提升，尤其是其在芯片制造中的精密技术与广泛应用。 让我们深入了解光刻机产业链、优势和相关上市公司。 首先，光刻机的精度极高，能将微小电路复制到硅片，涉及电子科学、计算机科学等多个领域。 全球光刻机市场价值巨大，ASML处于领先地位，但国产化率相对较低。 随着技术进步，5nm及以下制程节点的挑战加剧，国产高端光刻机的发展空间被看好。 在光刻机产业链中，上游涉及原材料供应和关键组件制造，中游是光刻胶和集成，下游则服务于消费电子、医疗、航空航天等多个行业。 大族激光、雅克科技、航天智造、彤程新材、圣泉集团、张江高科、安集科技和捷捷微电等上市公司凭借技术优势和成长性，值得投资者关注。 例如，大族激光拥有紫外激光专利，提供激光技术装备解决方案；雅克科技涉足集成电路和显示面板领域，通过并购拓展业务；航天智造在磁记录技术上有所建树；圣泉集团在专利和标准制定方面表现突出；而张江高科则专注于生物医药和通讯信息投资。 然而，需要注意的是，光刻机市场仍存在技术壁垒和美国对中国的技术封锁，国产化进程需要进一步推动。 投资需谨慎，以上内容仅供参考，不构成投资建议。

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